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微纳米结构喷印成型系统

  • 申请号: 申请公布号:
  • 申请日: 申请公布日: 2017-01-17
  • 申请(专利权)人:BI754374250 专利代理机构:
  • 分类号:

专利介绍

此成果主要是进行先进材料的微纳结构成型。利用液体在电场力作用下可以形成大颈缩比(喷嘴与液体射流直径比可达106:1)的精细稳定射流(纳米级)特性,创新性提出电流体射流微纳米喷印成型方法,建立了高精度二维及三维电流体射流微纳米喷印成型系统,实现了各种功能材料及复合材料高精度微结构成型。此方法的提出与应用实现了宽内径针头(几百微米)直写高精度结构(几微米)的成型工艺,克服了传统喷印技术依靠降低针头内径尺寸来提高成型结构精度(喷墨打印等)的难题。此方法具有成型精度高、可控性强、材料适应性广的显著优点,在先进材料微纳结构成型方面具有巨大优势。在此基础上,完成了高频厚膜压电超声波传感器的制作,去除了传统压电厚膜微结构制作过程中的刻蚀工艺,提高了结构精度,提高了材料性质、简化了制作工艺。